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真空閘閥是一種用于控制真空系統(tǒng)中氣流的閥門,常用于半導體制造、真空冶金、醫(yī)療設備、航空航天等領域。
真空閘閥閥體的溫度要求取決于所傳輸的介質以及運行條件。在一些應用中,如高溫或低溫環(huán)境下,閥體可能需要加熱或冷卻以維持其性能和可靠性。在真空應用中,閥體的溫度通常需要控制在低溫范圍內,以避免氣體分子在閥體表面凝結或凍結,從而影響其密封性能。因此,真空閘閥閥體溫度的要求應該根據具體情況進行評估和確定。
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